Pineapple LOFT, 21 Pink Street, New York
A new generation of readers
ASPEN ONLINE
+1-123-456-7890
От гипотезы к изделию
Технологический процесс нанесения ультрасовременного нанопокрытия
Нанопокрытие создается с помощью вакуумного магнетронного распыления установки УВН-71. Основные компоненты процесса включают металлическую мишень и аргон в качестве плазмообразующего инертного газа. Металлические мишени, используемые для распыления, могут быть изготовлены из титана, вольфрама, золота или серебра с размером наночастиц в диапазоне 50-80 нм.
Процесс нанесения нанопокрытия состоит из нескольких этапов:
Этапы создания покрытий и параметры режимов
1. Подготовка образцов:
- Образцы (из пластизоли, винила, меди, бронзы, серебра, минеральные гранулы и др.) размещаются на карусели подложкодержателя в вакуумной камере установки.
- Камера откачивается до предельного вакуума (1*10^-5 мм.рт.ст.), чтобы удалить реактивные газы (кислород, азот и др.).
2. Нагрев образцов:
- При необходимости образцы нагреваются с помощью кварцевых ламп.
3. Ионная очистка:
- В камеру напускается аргон ВЧ до давления 1*10^-2 мм.рт.ст.
- На источник быстрых нейтронов подаётся напряжение 1,5 кВт, создавая тлеющий разряд (плазму).
- Ионы аргона бомбардируют поверхность образцов, проводя травление, удаляя остатки органических загрязнений и активируя поверхность.
- Параметры тока разряда: 0,4-0,6 А, продолжительность очистки: 10-15 минут.
4. Магнетронное распыление:
- Давление аргона понижается до 3-8,5*10^-4 мм.рт.ст.
- На магнетронную систему подаётся напряжение поджига (-1000 В) и напряжение питания (350-600 В).
- Возникает тлеющий разряд (ток разряда: 0,5-3,5 А), и начинается распыление мишени.
- Время напыления определяется толщиной покрытия и составляет от 2 до 4 минут.
Активация нанопокрытия
После нанесения наночастиц проводится их активация с помощью наносекундной лазерной системы Quantel. Эта активация придает покрытию свойства генератора слабого электромагнитного поля. Состав мишени включает частицы золота, платины, серебра, титана или вольфрама, подбираемые в зависимости от области применения готового продукта (медицина, косметология, спорт, бытовое использование). Носителем наночастиц может быть любой материал, такой как пластик, ткань, металл или минеральные гранулы.
Последним этапом производства является активация нанесенных наночастиц с использованием промышленной лазерной системы высокой мощности. В результате этого процесса носитель приобретает свойства генератора электромагнитного поля низкой интенсивности, обладающего лечебным действием.
Нанопокрытие создается с помощью вакуумного магнетронного распыления установки УВН-71. Основные компоненты процесса включают металлическую мишень и аргон в качестве плазмообразующего инертного газа. Металлические мишени, используемые для распыления, могут быть изготовлены из титана, вольфрама, золота или серебра с размером наночастиц в диапазоне 50-80 нм.
Процесс нанесения нанопокрытия состоит из нескольких этапов:
- Подготовка образцов: Образцы размещаются в вакуумной камере и очищаются ионной очисткой.
- Магнетронное распыление: Наночастицы распыляются на поверхность образцов.
- Активация нанопокрытия: Наночастицы активируются с помощью лазерной системы, превращая покрытие в генератор слабого электромагнитного поля.
Этапы создания покрытий и параметры режимов
1. Подготовка образцов:
- Образцы (из пластизоли, винила, меди, бронзы, серебра, минеральные гранулы и др.) размещаются на карусели подложкодержателя в вакуумной камере установки.
- Камера откачивается до предельного вакуума (1*10^-5 мм.рт.ст.), чтобы удалить реактивные газы (кислород, азот и др.).
2. Нагрев образцов:
- При необходимости образцы нагреваются с помощью кварцевых ламп.
3. Ионная очистка:
- В камеру напускается аргон ВЧ до давления 1*10^-2 мм.рт.ст.
- На источник быстрых нейтронов подаётся напряжение 1,5 кВт, создавая тлеющий разряд (плазму).
- Ионы аргона бомбардируют поверхность образцов, проводя травление, удаляя остатки органических загрязнений и активируя поверхность.
- Параметры тока разряда: 0,4-0,6 А, продолжительность очистки: 10-15 минут.
4. Магнетронное распыление:
- Давление аргона понижается до 3-8,5*10^-4 мм.рт.ст.
- На магнетронную систему подаётся напряжение поджига (-1000 В) и напряжение питания (350-600 В).
- Возникает тлеющий разряд (ток разряда: 0,5-3,5 А), и начинается распыление мишени.
- Время напыления определяется толщиной покрытия и составляет от 2 до 4 минут.
Активация нанопокрытия
После нанесения наночастиц проводится их активация с помощью наносекундной лазерной системы Quantel. Эта активация придает покрытию свойства генератора слабого электромагнитного поля. Состав мишени включает частицы золота, платины, серебра, титана или вольфрама, подбираемые в зависимости от области применения готового продукта (медицина, косметология, спорт, бытовое использование). Носителем наночастиц может быть любой материал, такой как пластик, ткань, металл или минеральные гранулы.
Последним этапом производства является активация нанесенных наночастиц с использованием промышленной лазерной системы высокой мощности. В результате этого процесса носитель приобретает свойства генератора электромагнитного поля низкой интенсивности, обладающего лечебным действием.
